实

验

设

备

Laboratory

Equipment

物

理

气 (PVD)

相

沉

积

蒸发

(Evaporation)

电阻(Resistive)

ZHD300

ZHD400

ZHDS400

电子束(E-beam)

TEMD500

TEMD600

溅射

(Sputtering)

磁控(Magnetron)

JCP200

JCP350

JCP500

JCPY500

离子镀

(Ion Plating)

磁控+离子镀

(Magnetron+Ion Plating)

TSU650

化

学

气 (CVD)

相

沉

积

等离子体(PCVD)

等离子体增强(PECVD)

PECVD350

环境加热(TCVD)

热丝(HFCVD)

HF600

管式(Tubular)

CVD100

真

空

应(Vacuum furnace)

用

炉

真空退火炉(Vacuum Brazing Furnace)

VTHK350

VTHK500

真空提纯炉(Vacuum Refining Furnace)

VDS80

真空电弧炉(Vacuum Arc Furnace)

VDK250