一、设备概述

1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途：

► 占地面积小，价格便宜，性能稳定，使用维护成本低；

► 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；

► 镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；

► 单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。

二、技术参数