咨询电话:138 1165 4101
销售工程师:彭工
手机号:136 0112 5769
一、产品概述
1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、产品特点/用途:
►占地面积小,价格便宜,性能稳定,使用维护成本低;
►可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等;
►镀膜示例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等;
►单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。
二、技术参数
型号 | JCP500 |
真空腔室结构 | 立式前开门结构,后置抽气系统 |
真空腔室尺寸 | Φ500×H420mm |
加热温度 | 室温~500℃ |
溅射方式 | 上下溅射可选 |
旋转基片台 | Φ150mm |
膜厚不均匀性 | Φ100mm范围内≤±5.0% |
溅射靶/蒸发电极 | Φ3英寸磁控靶3支,兼容DC/MF/RF溅射 |
工艺气体 | 2~3路气体流量控制 |
控制方式 | PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统 |
占地面积 | (主机)L1900×W800×H1900mm |
总功率 | ≥10KW |