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销售工程师:彭工
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一、产品概述
1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、产品特点/用途:
►设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;
►适用于实验室制备金属单质膜、有机膜,也可用于生产线前期工艺试验等;
►适用于制备光学薄膜、导电薄膜、铁电薄膜等。
二、技术参数
型号 | TEMD600 |
真空腔室结构 | 立式圆柱形侧开门结构,后置抽气系统 |
真空腔室尺寸 | Φ600×H750mm |
加热温度 | 室温~300℃ |
旋转基片台 | 平板型Φ350mm,或球罩型基片台可选 |
膜厚不均匀性 | ≤±5.0% |
考夫曼离子源 | 可选 |
蒸发源 | 电子枪8KW 6穴坩埚 国产进口可选,配2-3组电阻蒸发 |
控制方式 | PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统 |
占地面积 | 长×宽:L2500×W1600mm |
总功率 | ≥17KW |