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高真空升华提纯炉

高真空升华提纯炉 VDS80


一、设备概述

1、适用范围:广泛用于高校、科研院所及企业的研发小批量生产。

2、产品特点:设备操作简单、真空度高、温区多、可通气氛。

3、主要用途

►在成熟管式加热炉基础上,结合备提纯物;

►利用有机小分子材料物理特性及相关提纯工艺研发的三温区高真空升华提纯炉。广泛用于OLED等新型合成材料升华提纯实验和小批量生产之用,替代进口材料,节约材料成本;

可用于电子陶瓷产品的预烧、烧结;高温热解低温CVD沉积薄膜等。

 

 

二、技术参数

型号VDS80
真空腔室尺寸Φ80×800mm
等温区尺寸三温区
加热温度不锈钢外壳、铁铬铝加热、陶瓷纤维保温
控制方式PLC控制
占地面积主机L1400×W600×H1380mm
总功率≥6KW