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高真空电阻蒸发镀膜机 ZHD300




一、产品概述

1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途:

► 设备一体化设计,占地面积小,价格优惠,性能稳定,使用维护成本低;

► 设备配备2组蒸发源,兼容有机蒸发与无机蒸发,多元共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜,功能强大,性能稳定;

► 适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜,也可用于生产线前期工艺试验等;

► 适用于蒸发镀膜与手套箱环境有机融合,实现蒸镀、封装、测试等工艺无缝对接,广泛用于钙钛矿太阳能电池/OPV有机太阳能电池及OLED薄膜等研究系统等。

 

二、技术参数

型号 ZHD300
镀膜方式 电阻蒸发
真空腔室结构 玻璃钟罩+不锈钢底座
真空腔室尺寸  Φ300×H360mm
加热温度 室温~300℃
旋转基片台 Φ100mm
基片台升降
膜厚不均匀性 基片台Φ80mm范围内≤±5.0%
蒸发源 2组金属蒸发源
控制方式 PLC控制
占地面积 主机L1180×W800×H1180mm
总功率 ≥3.2KW