产品中心

销售经理:朱加强

手 机:136 0112 3129

技术支持:李长栋

手 机:136 0112 5769

地址:北京昌平区崔村镇西辛峰工业区6区1号

首页 >产品中心 > 蒸发镀膜设备 > 电子束蒸发类

高真空电子束蒸发镀膜机 TEMD600


一、产品概述

1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途

►设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;

►适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜,也可用于生产线前期工艺试验等;

►适用于制备光学薄膜、导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜等。

 

二、技术参数

型号 TEMD600
真空腔室结构 立式圆柱形侧开门结构,后置抽气系统
真空腔室尺寸 Φ600×H750mm
加热温度 室温~300℃
旋转基片台 平面≤Φ300mm,球面≤Φ450mm
膜厚不均匀性 ≤±5.0%
考夫曼离子源 可选
蒸发源 4-6穴坩埚可选/2组蒸发源
控制方式 PLC控制/工控机全自动控制可选
占地面积 主机L1500×W850×H1850mm
总功率 ≥20KW