Evaporator Ion

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一、产品概述

1、主要用途:适合在大面积玻璃、亚克力板、PC表面沉积纳米级金属膜(金、银、铜、铝、铬等)、半导体膜(ITO、AZO等)、介质膜(氧化钛、氧化铬、氧化钨)等,广泛应用在光伏、光电、触摸屏、半导体、平板电极及建筑装饰玻璃等行业。

2、产品优点及特点:采用磁控溅射方式,沉积速率快,膜层均匀致密,光亮度好,在大面积上的镀膜不均匀性≤±5%,特别适合有功能性要求的膜层制备及控制;例:镀膜导电膜层,电阻值均匀可控,可以控制为稳定电阻,也可控制为渐变电阻。加上自主开发全自动控制系统可实现一键化操作;保证产品镀膜性能连续稳定;设备采用模块化设计,可根据生产量增加镀膜模块及其他拓展模块,设备易拆卸、维护保养。

 

二、技术参数

型号 JCPF1600/1900/2400/3000/4200/4500
真空系统 国产或进口分子泵/扩散泵+罗茨泵+机械泵高真空系统
极限真空 优于8.0×10-5Pa
抽速 从大气到3.3×10-3Pa≤30min, 升压率关机12小时后真空度≤10Pa
工件架尺寸 可根据尺寸定制
工件烘烤温度 室温~300℃,可调可控(PID控温)
配置 弧源、蒸发电极、矩形磁控靶、离子源、偏压可选
系统 全自动控制系统,个性化的Tech-Coating控制菜单,安全保护系统