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多功能磁控离子复合镀膜设备 TSU650




一、产品概述

1、主要用途及应用范围:该设备可制备TiN\CrN\AlCrN\ZrN\TiC\TiCN\TiAlN\TiAlCN\DLC膜等,非常适合小批量在刀具(钻头、铣刀、拉刀、丝锥、滚齿刀等)、高精工模具(冲压模具、剪切模具、成型模具、注塑模具等)及其他关键部件上镀制单层/多层硬质涂层、耐腐蚀涂层、耐磨减磨涂层、高端装饰涂层(电子配件、金属外壳)等功能薄膜。广泛用于大专院校、研究院所和企业器件研发制造及小批量试产。

2、产品优点及特点:设备为我公司TSU系列成熟产品,复合配置新型多弧离子镀膜功能和磁控溅射镀膜功能及离子源辅助等功能,设备采用磁控、多弧、离子源等通用接口安装,任意组合,功能全面,强大,灵活组合调试,可最大限度实现多种类膜层的制备;是一款不可多得的试验、中试设备。

 

二、技术参数

型号 TSU650
真空腔室尺寸 Φ650×H650mm
真空系统 国产或进口分子泵+机械泵高真空系统
极限真空 优于8.0×10-5Pa
抽速 从大气到3.3×10-3Pa≤30min,升压率关机12小时后真空度≤10Pa
工件架尺寸 4-6工位可选
工件烘烤温度 室温~500℃,可调可控(PID控温)
配置 弧源、矩形磁控靶、离子源、偏压可选
系统 全自动控制系统,个性化的Tech-Coating控制菜单,安全保护系统
占地面积 长×宽:2.8m×1.2m